電鍍設備有哪些結構？

解說電鍍設備的結構

1.藥水槽體：一般采用PP、PVC、不銹鋼等材料。無需加熱可采用PVC槽，溫度低于70℃可采用PP槽，溫度超過70℃時需采用不銹鋼槽，但電鍍槽不能采用不銹鋼槽(金屬槽)。連續電鍍時，有分母槽和子槽。母槽用于裝電鍍藥水，而子槽用于電鍍。當前分母槽分離，同體，共用三種方式。母槽結構設計簡單，只需考慮水流、攪拌、穩流、定位、陰陽極距離等因素。

2.槽體基架：一般有塑膠藥槽衍生架、角鐵、不銹鋼方管、黑鐵漆等。為了考慮強度和耐腐蝕性，推薦使用不銹鋼方管。

3.進水系統：一般采用純水和自來水。每一個藥槽水槽都有進水口，用于補充水位和清洗水槽。為了避免水管泄漏或人為疏忽，電鍍槽沒有進水裝置。

4.排水系統：一般排水系統需要先對排水系統進行分類。連續電鍍的廢水分為：酸、堿、鎳、金、錫、鉛等。而且每個槽的排水管建議使用一英寸以上的管道。排水效果較好。普通洗滌槽設置單排水閥，而各電鍍槽設置雙排水閥，避免人為疏忽排出藥水。每個水槽設置溢流管，避免滿水流入其水槽。

5.抽氣系統:電鍍設備需要密封(即上蓋)，才能有抽氣效果。在主要產生廢氣的藥槽中設置吸氣口，可以調節吸氣量。由于氣體中的水分含量極高，需要設置排水裝置。抽出的氣體也必須進行廢氣處理。

6.電加熱系統:加熱系統非常重要，因為藥槽需要加熱。一般加熱系統由加熱器、溫度傳感器、液位傳感器、溫度設定器、TIMER、報警器等組成。由于安全問題，必須配備無水自動斷電系統。浸泡在藥水中的材料以鈦金屬較長，但建議使用不銹鋼或鐵氟龍。

7.冷卻系統:一般有直接冷凍和間接冷凍。直接冷凍法是將藥水抽入冷凍機冷卻，冷凍效果好。間接冷凍法是將冷卻水管間接冷凍藥水排入藥水槽，冷凍效果差，難以清洗。冷凍機的散熱方式有水冷法(必須有冷卻水塔)和氣冷法(風扇)。如果錫鉛藥水能保持24小時低溫，藥水不會造成混濁。

8.電氣控制系統:除了上述加熱和冷卻系統的電氣控制外，還有泵、過濾器、振蕩器、整流器、傳動器、烤箱、鼓風機等的電氣控制，通常由電源控制箱總結控制。整流器和傳動設置為聯動裝置。

9.刮水設備:在連續電鍍設備中，有橡膠刮板、刷子、吹、刷子、吹氣、吸水海綿等。其中吹風效果比較好，但成本比較高。目前吹風方式有空氣壓縮機生成式和鼓風機生成式。端子結構差(易變形)的不適合刷子和刮板，硅橡膠刮板適合扁平端子。

10.干燥系統:電鍍后，必須去除端子表面的水滴，否則干燥效果會很差。一般干燥的烤箱使用HEATER或IR，在熱風循環下干燥。烤箱需要溫度控制裝置。

11.進料系統:一般進料方式為水平式和垂直式。進料區設有卷紙裝置，連接開關，定位導輪。如果生產速度快，應設置緩沖接線。

12.進料系統:一般進料方式為水平式和垂直式。進料區應設置傳動裝置(某些特殊傳動裝置不在進料系統內)、計數裝置、連動開關、進料裝置、紙轉盤、定位導輪，生產速度快時應設置緩沖接線。

13.泵過濾器:一般分為臥式泵和立式泵，其規格用HP馬力區分，馬力越大，其流動越大。

量也越大，過濾器的濾芯常用規格為1，5，10，數越小可過濾的粒子越小，過濾效果也越好。一般來說，金槽、鎳槽使用1，其他使用5，每周定期檢查。過濾時間越長，效果越好，24小時過濾比較好。

14.整流器:目前有可控硅整流器、晶體整流器、變頻整流器、脈沖整流器等。因為DC波度會影響電流密度范圍，濾波度越小，可操作的電流密度越寬，濾波度一般在3%以下。其中變頻整流器比較好，濾波度在0.1%左右。

15.定位器：一般用于藥槽的方法有固定式(全面浸泡時使用)和調整式(選擇鍍層或考慮電流分布時使用)，而用料有耐酸堿、耐熱塑料、玻璃、陶瓷等。對于藥槽外的定位器，大多采用不銹鋼。

16.陰陽極：陰(陽)極導線規格==較大操作電流/4*(線數)。如果電流為100安培，導線為兩條，導線截面至少需要12.5mm。陽極分為可溶性陽極和不可溶性陽極。可溶性陽極用于補充(普通金屬電鍍常見)，不可溶性陽極用于輔助陽極。比如鍍鎳的時候，用鎳金屬做可溶性陽極，鈦籃用于裝鎳金屬，所以是不可溶性陽極。貴金屬電鍍一般采用不可溶性陽極，導電性好，使用貴金屬不可溶性陽極(如白金)。陰極一般指鍍件，但這里提到的陰極是鍍件導電用的陰極導頭，一般陰極導電頭采用銅合金或不銹鋼，必須考慮導電、耐腐蝕、操作、成本，才能確定材料。陰極導電頭與鍍件接觸良好，摩擦越小越好。

17.攪拌器:為了提高電鍍效率、電鍍均勻性和電流密度，必須加強攪拌效果。一般采用強水流攪拌、陰極振蕩攪拌、超聲波攪拌、空氣攪拌等方式。